設備用途：

磁控與離子束複合係統用於納米級單層及多層功能膜、 硬質膜、 金屬膜、 半導體膜、 介質膜、 鐵磁膜和磁性薄膜等的製備。 可廣泛應用於半導體、 微電子及新材料領域。

設備組成：

係統主要由濺射真空室、 深夜网站在线观看靶、 基片水冷加熱公轉台、 Kaufman 離子槍、 四工位轉靶、 工作氣路、 抽氣係統、 真空測量、 電控係統及安裝機台等部分組成。

技術指標：

極限真空度：≤6.67×10-5 Pa (經烘烤除氣後)；

係統真空檢漏漏率：≤5.0×10-7 Pa.l/S；停機12小時≤5Pa.

係統短時間暴露大氣並充幹燥氮氣後，再開始抽氣，45分鍾可達到6.67×10-4Pa；

係統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱台、工作氣路、抽氣係統、真空測量、安裝機台及電控係統等部分組成。