設備用途：
熱阻蒸發係統適用於製備金屬薄膜等，可用於科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用於大批量生產前的試驗工作。
設備組成：
該設備主要由金屬源蒸發沉積室、真空排氣係統、真空測量係統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控係統、配氣係統等部分組成。可配合手套箱組裝。
技術參數：
極限真空度≤6.6×10-5Pa；
抽速：40分鍾可達到6×10-4Pa；
熱阻蒸發組件:2套；
有機蒸發束源爐組件：1套；
樣品尺寸：φ100mm×1片；
樣品台溫度：300℃；
分子泵係統：1套；
膜厚監測儀（1個探頭）：1套；
冷卻水路係統：1套；
自動控製係統：1套。
